Nanošenje isparavanjem, temeljni proces fizičkog taloženja iz pare (PVD), u osnovi se oslanja na vakuumsku tehnologiju. Vakuumska pumpa nije samo pomoćni uređaj, već temelj koji omogućuje cijeli proces stvaranjem i održavanjem visoko kontroliranog okruženja na molekularnoj razini. Njena funkcija proteže se daleko izvan jednostavnog uklanjanja zraka, uspostavljajući precizne fizičke uvjete potrebne za nanošenje visokokvalitetnih funkcionalnih tankih filmova.
Primarni razlog za visoki vakuum je osiguranje pravolinijskog kretanja isparenih čestica. Pri atmosferskom tlaku, visoka gustoća molekula plina uzrokuje trenutne i nasumične sudare, raspršujući materijal premaza. Pod visokim vakuumom (obično 10⁻⁴ do 10⁻⁶ mbar), srednji slobodni put isparenih atoma ili molekula dramatično se povećava na nekoliko metara, omogućujući im da putuju izravno od izvora do podloge. To omogućuje preciznu kontrolu nad debljinom filma, ujednačenošću i sastavom.
Nadalje, okruženje visokog vakuuma sprječava oksidaciju i kontaminaciju. Većina metala (npr. aluminij, krom) i spojeva vrlo su reaktivni na temperaturama isparavanja. Gotovo potpuno uklanjanje reaktivnih plinova poput kisika i vodene pare osigurava taloženje materijala u njihovom čistom, metalnom stanju, što je ključno za postizanje specifičnih optičkih, električnih ili mehaničkih svojstava u konačnom premazu. Ovo okruženje također osigurava atomski čistu površinu podloge desorbiranjem kontaminanata, što je bitno za snažno prianjanje filma.
Sustav vakuumske pumpe djeluje kao inženjer zaštite okoliša. Mora brzo uspostaviti potreban bazni tlak, dinamički održavati stabilnost uklanjanjem ispuštanja plinova iz materijala i pribora te rukovati nusproizvodima u reaktivnim procesima. Ova stabilnost je ključna za dosljednu kvalitetu proizvodnje od serije do serije.
Kritična potreba za filtracijom proizlazi iz zaštite ovog preciznog sustava. Sam proces premazivanja može generirati fine čestice, raspršene kapljice ili kondenzirajuće pare. Bez odgovarajućegulazni filter, ovi se onečišćujući materijali mogu usisati natrag u vakuumsku pumpu. To dovodi do povećanog trošenja rotora i lopatica, onečišćenja ulja pumpe (u sustavima s uljnim brtvljenjem) i postupnog smanjenja brzine pumpanja i konačnog vakuuma. U konačnici, to ugrožava stabilnost procesa, skraćuje vijek trajanja pumpe i povećava troškove održavanja. Stoga, ugradnja odgovarajućih filtera - poput filtera čestica, molekularnih zamki ili hladnih zamki - nije opcionalna, već vitalna investicija za zaštitu vakuumske pumpe, osiguravanje dosljedne kvalitete premaza i očuvanje vremena rada proizvodnje.
Sve u svemu, vakuumske pumpe omogućuju nanošenje isparavanjem osiguravajući čisto, nekontaminirano i kontrolirano okruženje za transport materijala i stvaranje filma. Spajanje ove mogućnosti s robusnom strategijom filtracije ključno je za postizanje pouzdane, visokoučinkovite i ekonomične proizvodnje tankog filma.
Vrijeme objave: 25. prosinca 2025.
