Salutan penyejatan, satu proses pemendapan wap fizikal teras (PVD), pada asasnya bergantung pada teknologi vakum. Pam vakum bukan sekadar peranti tambahan tetapi asas yang membolehkan keseluruhan proses dengan mewujudkan dan mengekalkan persekitaran berskala molekul yang sangat terkawal. Fungsinya melangkaui penyingkiran udara yang mudah, mewujudkan keadaan fizikal yang tepat yang diperlukan untuk memendapkan filem nipis berfungsi berkualiti tinggi.
Sebab utama memerlukan vakum yang tinggi adalah untuk memastikan perjalanan garis lurus zarah-zarah yang tersejat. Pada tekanan atmosfera, ketumpatan molekul gas yang tinggi menyebabkan perlanggaran serta-merta dan rawak, lalu menyerakkan bahan salutan. Di bawah vakum yang tinggi (biasanya 10⁻⁴ hingga 10⁻⁶ mbar), purata laluan bebas atom atau molekul yang tersejat meningkat secara mendadak kepada beberapa meter, membolehkannya bergerak terus dari sumber ke substrat. Ini membolehkan kawalan yang tepat ke atas ketebalan, keseragaman dan komposisi filem.
Tambahan pula, persekitaran vakum yang tinggi menghalang pengoksidaan dan pencemaran. Kebanyakan logam (contohnya, aluminium, kromium) dan sebatian sangat reaktif pada suhu penyejatan. Hampir penghapusan gas reaktif seperti oksigen dan wap air memastikan bahan mendapan dalam keadaan logam tulennya, yang penting untuk mencapai sifat optik, elektrik atau mekanikal tertentu dalam salutan akhir. Persekitaran ini juga menyediakan permukaan substrat yang bersih secara atom dengan menyahjerap bahan cemar, yang penting untuk lekatan filem yang kuat.
Sistem pam vakum bertindak sebagai jurutera alam sekitar. Ia mesti menetapkan tekanan asas yang diperlukan dengan cepat, mengekalkan kestabilan secara dinamik dengan menyingkirkan gas keluar daripada bahan dan lekapan, dan mengendalikan hasil sampingan dalam proses reaktif. Kestabilan ini adalah kunci untuk kualiti pengeluaran kelompok ke kelompok yang konsisten.
Keperluan kritikal untuk penapisan timbul daripada melindungi sistem yang tepat ini. Proses salutan itu sendiri boleh menghasilkan jirim zarah halus, titisan percikan atau wap yang boleh terkondensasi. Tanpapenapis masuk, bahan cemar ini boleh ditarik balik ke dalam pam vakum. Ini membawa kepada peningkatan haus pada rotor dan bilah, pencemaran minyak pam (dalam sistem tertutup minyak), dan penurunan kelajuan pam dan vakum muktamad secara beransur-ansur. Akhirnya, ini menjejaskan kestabilan proses, memendekkan hayat perkhidmatan pam dan meningkatkan kos penyelenggaraan. Oleh itu, memasang penapis yang sesuai—seperti penapis partikulat, perangkap molekul atau perangkap sejuk—bukanlah pilihan tetapi merupakan pelaburan penting untuk melindungi pam vakum, memastikan kualiti salutan yang konsisten dan melindungi masa operasi pengeluaran.
Secara keseluruhannya, pam vakum membolehkan salutan penyejatan dengan menyediakan persekitaran yang tulen, tidak tercemar dan terkawal untuk pengangkutan bahan dan pembentukan filem. Menggabungkan keupayaan ini dengan strategi penapisan yang mantap adalah penting untuk mencapai penghasilan filem nipis yang andal, berprestasi tinggi dan menjimatkan.
Masa siaran: 25 Dis-2025
